<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Экран on UV Curing Hub</title>
		<link>http://uv-curing-hub.com/ru/tags/%D1%8D%D0%BA%D1%80%D0%B0%D0%BD/</link>
		<description>Recent content in Экран on UV Curing Hub</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 07:49:18 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-curing-hub.com/ru/tags/%D1%8D%D0%BA%D1%80%D0%B0%D0%BD/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>УФ лампа на галлии для шелкографии</title>
				<link>http://uv-curing-hub.com/ru/posts/uv-gallium-lamp-for-screen-printing/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 07:49:18 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-hub.com/ru/posts/uv-gallium-lamp-for-screen-printing/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-hub.com/images/4c9e492a67b56412ff36b4a4447cefe9.jpg&#34; alt=&#34;УФ лампа на галлии для шелкографии&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На высокоскоростных печатающих станках скорость в 200 м/мин не является целью – это лишь точка старта. Если ваше УФ-оборудование не может поддерживать стабильную мощность излучения во время движения материала под печатным станком, то возникают проблемы с прилипанием краски к поверхности, а также увеличивается количество бракованных изделий. Мы разработали наши УФ-лампы для экранной печати с учетом одного важного требования: стабильная процесс обработки при высокой скорости работы станка.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что действительно имеет значение&lt;/strong&gt;&#xA;Мы настраиваем спектр излучения лампы с использованием галлия так, чтобы интенсивность излучения приходилась на длину волны 365 нм – именно там наиболее эффективно действуют фотинициаторы, используемые в процессе экранной печати. Интенсивность излучения остается постоянной на всей длине луча благодаря использованию диффракционного покрытия отражателя, соответствующего спектру излучения лампы. Это позволяет направлять полезное УФ-излучение на поверхность материала, а не тратить его в виде тепла. При оценке стабильности излучения мы учитываем время работы лампы: ее ресурс определяется с учетом минимальной потери интенсивности излучения со временем.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
